Applications of the small spot ESCA system SSX 100 in surface analysis
| ISSN: |
1618-2650
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| Source: |
Springer Online Journal Archives 1860-2000
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| Topics: |
Chemistry and Pharmacology
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| Description / Table of Contents: |
Summary Evidence is presented that old ESCA limitations and restrictions (e.g. big X-ray beam diameter or small “unrealistic” size of samples) are not valid any longer. The new SSX 100 ESCA spectrometer with its unique combination of ESCA innovations (focusing monochromator, parallel imaging detectors, high throughput electron optics and improved sample handling) makes solving surface problems much easier. Two applications on semiconductors and insulators using the small spot X-ray beam (diameter: 150 μm) demonstrate that small spot ESCA technique now can be applied on problems which could not be solved with conventional ESCA technique hitherto.
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| Notes: |
Zusammenfassung Es wird gezeigt, daß bisherige Limitierungen und Restriktionen in der Anwendung der ESCA-Technik (z.B. der relativ große Strahldurchmesser oder die kleine „unrealistische“ Probengröße) nicht länger gültig sind. Das neue SSX 100 ESCA-System hilft bei der Lösung von Oberflächenproblemen ganz erheblich aufgrund seiner einzigartigen Kombination von sinnvollen und hilfreichen Innovationen (z.B. fokussierender Monochromator, parallel abbildender Detektor, effektive Elektronenoptik und ver besserte Probenhandhabung). Zwei Anwendungen bei Halbleitern und Isolatoren unter Benutzung des feinfokussierten Röntgenstrahls (Durchmesser: 150 μm) zeigen, daß die „small spot“ ESCA-Technik jetzt erfolgreich bei Problemen angewandt werden kann, die bisher mit konventionellem ESCA nicht zu lösen waren.
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| Type of Medium: |
Electronic Resource
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| URL: |
| _version_ | 1798297578790453249 |
|---|---|
| autor | Daiser, S. M. Maul, J. L. Kelly, M. A. |
| autorsonst | Daiser, S. M. Maul, J. L. Kelly, M. A. |
| book_url | http://dx.doi.org/10.1007/BF01226785 |
| datenlieferant | nat_lic_papers |
| hauptsatz | hsatz_simple |
| identnr | NLM20175360X |
| iqvoc_descriptor_title | iqvoc_00000708:analysis |
| issn | 1618-2650 |
| journal_name | Fresenius' Zeitschrift für analytische Chemie |
| materialart | 1 |
| notes | Zusammenfassung Es wird gezeigt, daß bisherige Limitierungen und Restriktionen in der Anwendung der ESCA-Technik (z.B. der relativ große Strahldurchmesser oder die kleine „unrealistische“ Probengröße) nicht länger gültig sind. Das neue SSX 100 ESCA-System hilft bei der Lösung von Oberflächenproblemen ganz erheblich aufgrund seiner einzigartigen Kombination von sinnvollen und hilfreichen Innovationen (z.B. fokussierender Monochromator, parallel abbildender Detektor, effektive Elektronenoptik und ver besserte Probenhandhabung). Zwei Anwendungen bei Halbleitern und Isolatoren unter Benutzung des feinfokussierten Röntgenstrahls (Durchmesser: 150 μm) zeigen, daß die „small spot“ ESCA-Technik jetzt erfolgreich bei Problemen angewandt werden kann, die bisher mit konventionellem ESCA nicht zu lösen waren. |
| package_name | Springer |
| publikationsjahr_anzeige | 1984 |
| publikationsjahr_facette | 1984 |
| publikationsjahr_intervall | 8019:1980-1984 |
| publikationsjahr_sort | 1984 |
| publisher | Springer |
| reference | 319 (1984), S. 845-847 |
| search_space | articles |
| shingle_author_1 | Daiser, S. M. Maul, J. L. Kelly, M. A. |
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| shingle_catch_all_1 | Daiser, S. M. Maul, J. L. Kelly, M. A. Applications of the small spot ESCA system SSX 100 in surface analysis Zusammenfassung Es wird gezeigt, daß bisherige Limitierungen und Restriktionen in der Anwendung der ESCA-Technik (z.B. der relativ große Strahldurchmesser oder die kleine „unrealistische“ Probengröße) nicht länger gültig sind. Das neue SSX 100 ESCA-System hilft bei der Lösung von Oberflächenproblemen ganz erheblich aufgrund seiner einzigartigen Kombination von sinnvollen und hilfreichen Innovationen (z.B. fokussierender Monochromator, parallel abbildender Detektor, effektive Elektronenoptik und ver besserte Probenhandhabung). Zwei Anwendungen bei Halbleitern und Isolatoren unter Benutzung des feinfokussierten Röntgenstrahls (Durchmesser: 150 μm) zeigen, daß die „small spot“ ESCA-Technik jetzt erfolgreich bei Problemen angewandt werden kann, die bisher mit konventionellem ESCA nicht zu lösen waren. Summary Evidence is presented that old ESCA limitations and restrictions (e.g. big X-ray beam diameter or small “unrealistic” size of samples) are not valid any longer. The new SSX 100 ESCA spectrometer with its unique combination of ESCA innovations (focusing monochromator, parallel imaging detectors, high throughput electron optics and improved sample handling) makes solving surface problems much easier. Two applications on semiconductors and insulators using the small spot X-ray beam (diameter: 150 μm) demonstrate that small spot ESCA technique now can be applied on problems which could not be solved with conventional ESCA technique hitherto. 1618-2650 16182650 Springer |
| shingle_catch_all_2 | Daiser, S. M. Maul, J. L. Kelly, M. A. Applications of the small spot ESCA system SSX 100 in surface analysis Zusammenfassung Es wird gezeigt, daß bisherige Limitierungen und Restriktionen in der Anwendung der ESCA-Technik (z.B. der relativ große Strahldurchmesser oder die kleine „unrealistische“ Probengröße) nicht länger gültig sind. Das neue SSX 100 ESCA-System hilft bei der Lösung von Oberflächenproblemen ganz erheblich aufgrund seiner einzigartigen Kombination von sinnvollen und hilfreichen Innovationen (z.B. fokussierender Monochromator, parallel abbildender Detektor, effektive Elektronenoptik und ver besserte Probenhandhabung). Zwei Anwendungen bei Halbleitern und Isolatoren unter Benutzung des feinfokussierten Röntgenstrahls (Durchmesser: 150 μm) zeigen, daß die „small spot“ ESCA-Technik jetzt erfolgreich bei Problemen angewandt werden kann, die bisher mit konventionellem ESCA nicht zu lösen waren. Summary Evidence is presented that old ESCA limitations and restrictions (e.g. big X-ray beam diameter or small “unrealistic” size of samples) are not valid any longer. The new SSX 100 ESCA spectrometer with its unique combination of ESCA innovations (focusing monochromator, parallel imaging detectors, high throughput electron optics and improved sample handling) makes solving surface problems much easier. Two applications on semiconductors and insulators using the small spot X-ray beam (diameter: 150 μm) demonstrate that small spot ESCA technique now can be applied on problems which could not be solved with conventional ESCA technique hitherto. 1618-2650 16182650 Springer |
| shingle_catch_all_3 | Daiser, S. M. Maul, J. L. Kelly, M. A. Applications of the small spot ESCA system SSX 100 in surface analysis Zusammenfassung Es wird gezeigt, daß bisherige Limitierungen und Restriktionen in der Anwendung der ESCA-Technik (z.B. der relativ große Strahldurchmesser oder die kleine „unrealistische“ Probengröße) nicht länger gültig sind. Das neue SSX 100 ESCA-System hilft bei der Lösung von Oberflächenproblemen ganz erheblich aufgrund seiner einzigartigen Kombination von sinnvollen und hilfreichen Innovationen (z.B. fokussierender Monochromator, parallel abbildender Detektor, effektive Elektronenoptik und ver besserte Probenhandhabung). Zwei Anwendungen bei Halbleitern und Isolatoren unter Benutzung des feinfokussierten Röntgenstrahls (Durchmesser: 150 μm) zeigen, daß die „small spot“ ESCA-Technik jetzt erfolgreich bei Problemen angewandt werden kann, die bisher mit konventionellem ESCA nicht zu lösen waren. Summary Evidence is presented that old ESCA limitations and restrictions (e.g. big X-ray beam diameter or small “unrealistic” size of samples) are not valid any longer. The new SSX 100 ESCA spectrometer with its unique combination of ESCA innovations (focusing monochromator, parallel imaging detectors, high throughput electron optics and improved sample handling) makes solving surface problems much easier. Two applications on semiconductors and insulators using the small spot X-ray beam (diameter: 150 μm) demonstrate that small spot ESCA technique now can be applied on problems which could not be solved with conventional ESCA technique hitherto. 1618-2650 16182650 Springer |
| shingle_catch_all_4 | Daiser, S. M. Maul, J. L. Kelly, M. A. Applications of the small spot ESCA system SSX 100 in surface analysis Zusammenfassung Es wird gezeigt, daß bisherige Limitierungen und Restriktionen in der Anwendung der ESCA-Technik (z.B. der relativ große Strahldurchmesser oder die kleine „unrealistische“ Probengröße) nicht länger gültig sind. Das neue SSX 100 ESCA-System hilft bei der Lösung von Oberflächenproblemen ganz erheblich aufgrund seiner einzigartigen Kombination von sinnvollen und hilfreichen Innovationen (z.B. fokussierender Monochromator, parallel abbildender Detektor, effektive Elektronenoptik und ver besserte Probenhandhabung). Zwei Anwendungen bei Halbleitern und Isolatoren unter Benutzung des feinfokussierten Röntgenstrahls (Durchmesser: 150 μm) zeigen, daß die „small spot“ ESCA-Technik jetzt erfolgreich bei Problemen angewandt werden kann, die bisher mit konventionellem ESCA nicht zu lösen waren. Summary Evidence is presented that old ESCA limitations and restrictions (e.g. big X-ray beam diameter or small “unrealistic” size of samples) are not valid any longer. The new SSX 100 ESCA spectrometer with its unique combination of ESCA innovations (focusing monochromator, parallel imaging detectors, high throughput electron optics and improved sample handling) makes solving surface problems much easier. Two applications on semiconductors and insulators using the small spot X-ray beam (diameter: 150 μm) demonstrate that small spot ESCA technique now can be applied on problems which could not be solved with conventional ESCA technique hitherto. 1618-2650 16182650 Springer |
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